[实用新型]纳米真空镀膜仪

说明书

本实用新型公开一种纳米真空镀膜仪，包括真空镀膜仪本体，其包括蒸发源、蒸发坩埚以及真空镀膜室，蒸发坩埚位于真空镀膜室底部，真空镀膜室内设置有镀膜零件架，还包括电磁吸附装置，镀膜零件架包括装载盘和固定在装载盘两侧的支杆，支杆外端可移动得设置在真空镀膜室的内壁上，装载盘上表面固定有电磁吸附装置，真空镀膜室顶部向下固定有直杆，直杆通过万向旋转连接头与装载盘固定。与现有技术相比，本实用新型的优点在于：在万向旋转接头的作用下，装载盘与水平面的角度可以调节，使得镀膜的面可以调节，使得镀膜更加均匀，且表面都可以镀膜；滑块可以在直线滑轨上上下移动，从而带动支杆的移动，调节装载盘的倾斜角度，实现镀膜范围可控制。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜领域，具体涉及一种纳米真空镀膜仪。

背景技术

真空镀膜即是在真空中把金属合金或者化合物进行蒸发和溅射，使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法。现有的真空镀膜并不能将需要镀膜的零件的表面全部镀膜，因此获得一种可以将需要镀膜的零件表面全部镀膜的真空镀膜装置十分重要。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对上述问题，提供一种纳米真空镀膜仪，包括真空镀膜仪本体，其包括蒸发源、蒸发坩埚以及真空镀膜室，蒸发坩埚位于真空镀膜室底部，真空镀膜室内设置有镀膜零件架，还包括电磁吸附装置，镀膜零件架包括装载盘和固定在装载盘两侧的支杆，支杆外端可移动得设置在真空镀膜室的内壁上，装载盘上表面固定有电磁吸附装置，真空镀膜室顶部向下固定有直杆，直杆通过万向旋转连接头与装载盘固定。

通过上述技术方案，在万向旋转接头的作用下，装载盘与水平面的角度可以调节，使得镀膜的面可以调节，使得镀膜更加均匀，且表面都可以镀膜。

真空镀膜室内壁上固定有直线滑轨，直线滑轨上配合有滑块，滑块与支杆固定，直线滑轨具有两个，且对立设置，二者连接线穿过装载盘所在垂直线的圆心。支杆包括多个杆体，相邻两个杆体之间通过万向轴连接。

通过上述技术方案，滑块可以在直线滑轨上上下移动，从而带动支杆的移动，调节装载盘的倾斜角度，实现镀膜范围可控制。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：在万向旋转接头的作用下，装载盘与水平面的角度可以调节，使得镀膜的面可以调节，使得镀膜更加均匀，且表面都可以镀膜；滑块可以在直线滑轨上上下移动，从而带动支杆的移动，调节装载盘的倾斜角度，实现镀膜范围可控制。

附图说明

图1为本实用新型主视图。

附图标记：1-真空镀膜仪本体；2-蒸发源；3-蒸发坩埚；4-真空镀膜室；5-电磁吸附装置；6-装载盘；7-杆体；8-万向旋转接头；9-万向轴；10-直线滑轨；11-滑块。

具体实施方式

为了使本领域技术人员更好地理解本实用新型，从而对本实用新型要求保护的范围作出更清楚地限定，下面就本实用新型的某些具体实施例对本实用新型进行详细描述。需要说明的是，以下仅是本实用新型构思的某些具体实施方式仅是本实用新型的一部分实施例，其中对于相关结构的具体的直接的描述仅是为方便理解本实用新型，各具体特征并不当然、直接地限定本实用新型的实施范围。

参阅附图所示，本实用新型采用以下技术方案，一种纳米真空镀膜仪，包括真空镀膜仪本体，其包括蒸发源、蒸发坩埚以及真空镀膜室，蒸发坩埚以及蒸发源以现有方式位于真空镀膜室底部，真空镀膜室内设置有镀膜零件架，还包括电磁吸附装置，镀膜零件架包括装载盘和固定在装载盘两侧的支杆，支杆外端可移动得设置在真空镀膜室的内壁上，装载盘上表面固定有电磁吸附装置，真空镀膜室顶部向下固定有直杆，直杆通过万向旋转连接头与装载盘固定。在万向旋转接头的作用下，装载盘与水平面的角度可以调节，使得镀膜的面可以调节，使得镀膜更加均匀，且表面都可以镀膜。万向旋转接头为现有万向旋转接头。