[实用新型]纳米真空镀膜仪有效

专利信息
申请号: 202020231888.0 申请日: 2020-02-28
公开(公告)号: CN211689210U 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 王宁 申请(专利权)人: 苏州泓沵达仪器科技有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/50
代理公司: 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 代理人: 汪建华
地址: 215000 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 纳米 真空镀膜
【权利要求书】:

1.一种纳米真空镀膜仪,包括真空镀膜仪本体(1),其包括蒸发源(2)、蒸发坩埚(3)以及真空镀膜室(4),蒸发坩埚(3)位于真空镀膜室(4)底部,所述真空镀膜室(4)内设置有镀膜零件架,还包括电磁吸附装置(5),其特征在于:所述镀膜零件架包括装载盘(6)和固定在装载盘(6)两侧的支杆,支杆外端可移动得设置在真空镀膜室(4)的内壁上,装载盘(6)上表面固定有电磁吸附装置(5),真空镀膜室(4)顶部向下固定有直杆,直杆通过万向旋转连接头与装载盘(6)固定。

2.根据权利要求1所述的纳米真空镀膜仪,其特征在于:所述真空镀膜室(4)内壁上固定有直线滑轨(10),直线滑轨(10)上配合有滑块(11),滑块(11)与支杆固定,。

3.根据权利要求1或2所述的纳米真空镀膜仪,其特征在于:所述支杆包括多个杆体(7),相邻两个杆体(7)之间通过万向轴(9)连接。

4.根据权利要求2所述的纳米真空镀膜仪,其特征在于:所述直线滑轨(10)具有两个,且对立设置,二者连接线穿过装载盘(6)所在垂直线的圆心。

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