[实用新型]一种电极片、载片器以及镀膜系统有效
申请号: | 202020130174.0 | 申请日: | 2020-01-20 |
公开(公告)号: | CN211848132U | 公开(公告)日: | 2020-11-03 |
发明(设计)人: | 赵赞良 | 申请(专利权)人: | 宁夏隆基乐叶科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/509;H01L31/18 |
代理公司: | 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 | 代理人: | 周娟 |
地址: | 755100 宁夏回族自治区银川市经*** | 国省代码: | 宁夏;64 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开一种电极片、载片器以及镀膜系统,涉及太阳能电池技术领域,以缓解表面成膜过程中绕镀所产生的硅片边缘颜色异常问题,从而提高硅片镀膜良率。所述电极片包括:至少一个载片单元。每个载片单元的至少一个表面具有载片区域和外围区域,外围区域位于载片区域的周向。每个载片单元的至少一个表面开设有用于抑制绕镀现象的至少一个槽体。至少一个槽体位于外围区域。所述载片器包括上述技术方案所提的电极片。本实用新型提供的电极片用于镀膜系统中。 | ||
搜索关键词: | 一种 电极 载片器 以及 镀膜 系统 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的