[实用新型]一种电极片、载片器以及镀膜系统

权利要求书

1.一种电极片，其特征在于，包括：

至少一个载片单元，每个所述载片单元的至少一个表面具有载片区域和外围区域，所述外围区域位于所述载片区域的周向；

每个所述载片单元的至少一个表面开设有用于抑制绕镀现象的至少一个槽体，所述至少一个槽体位于所述外围区域；

每个所述载片单元的同一表面中，所述槽体的槽口靠近载片区域外边缘的一侧与所述载片区域的外边缘距离d₁大于或等于0。

2.根据权利要求1所述的电极片，其特征在于，每个所述载片单元的同一表面中，所述槽体的槽口靠近外围区域外边缘的一侧与所述外围区域的外边缘距离d₂大于或等于0且小于d，d为所述载片区域的外边缘与所述外围区域的外边缘的距离。

3.根据权利要求1所述的电极片，其特征在于，每个所述载片单元的同一表面中，所述载片区域的外边缘与所述外围区域的外边缘的距离为d，d＝d₀+d₁+d₂，d₀为所述槽体的槽口靠近载片区域外边缘的一侧与靠近外围区域外边缘的一侧的距离，d₁为每个所述载片单元的同一表面中，所述槽体的槽口靠近载片区域外边缘的一侧与所述载片区域的外边缘距离，d₂为每个所述载片单元的同一表面中，所述槽体的槽口靠近外围区域外边缘的一侧与所述外围区域的外边缘距离。

4.根据权利要求1所述的电极片，其特征在于，每个所述载片单元的同一表面中，所述槽体的槽口靠近载片区域的一侧与所述载片区域的外边缘距离d₁＝0.01mm～0.5mm；和/或，

每个所述载片单元的同一表面中，所述槽体的槽口靠近载片区域外边缘的一侧与靠近外围区域外边缘的一侧的距离d₀为0.1mm-15mm。

5.根据权利要求1所述的电极片，其特征在于，每个所述载片单元的同一表面中，每个所述槽体的深度D小于所述外围区域的最大厚度T；或，

每个所述载片单元的同一表面中，每个所述槽体的深度D小于所述外围区域的最大厚度T的二分之一。

6.根据权利要求1～5任一项所述的电极片，其特征在于，所述至少一个载片单元包括至少两个载片单元；相邻两个所述载片单元的同一表面所开设的槽体连成一体；或，

所述至少一个槽体包括环状槽体，所述环状槽体绕设在所述载片区域的周向。

7.根据权利要求1～5任一项所述的电极片，其特征在于，所述至少一个槽体包括多个槽体，多个所述槽体绕设在所述载片区域的周向。

8.根据权利要求7所述的电极片，其特征在于，所述多个槽体中的至少一个为凹槽或缺口槽。

9.一种载片器，其特征在于，包括至少一个权利要求1～8任一项所述电极片。

10.一种镀膜系统，其特征在于，包括镀膜设备和权利要求9所述载片器，所述镀膜设备具有用于镀膜的镀膜腔；

所述镀膜系统处在镀膜状态时，所述载片器位于所述镀膜腔内。