[实用新型]一种电极片、载片器以及镀膜系统有效

专利信息
申请号: 202020130174.0 申请日: 2020-01-20
公开(公告)号: CN211848132U 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 赵赞良 申请(专利权)人: 宁夏隆基乐叶科技有限公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458;C23C16/509;H01L31/18
代理公司: 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 代理人: 周娟
地址: 755100 宁夏回族自治区银川市经*** 国省代码: 宁夏;64
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摘要:
搜索关键词: 一种 电极 载片器 以及 镀膜 系统
【说明书】:

实用新型公开一种电极片、载片器以及镀膜系统,涉及太阳能电池技术领域,以缓解表面成膜过程中绕镀所产生的硅片边缘颜色异常问题,从而提高硅片镀膜良率。所述电极片包括:至少一个载片单元。每个载片单元的至少一个表面具有载片区域和外围区域,外围区域位于载片区域的周向。每个载片单元的至少一个表面开设有用于抑制绕镀现象的至少一个槽体。至少一个槽体位于外围区域。所述载片器包括上述技术方案所提的电极片。本实用新型提供的电极片用于镀膜系统中。

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池技术领域,尤其涉及一种电极片、载片器以及镀膜系统。

背景技术

目前,太阳能电池片的制作流程主要包括表面制绒、扩散制结、表面成膜、丝网印刷和高温烧结等步骤。在表面成膜步骤中,主要采用等离子体增强化学气相沉积法(PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposition,缩写为PECVD)在已经形成PN结的硅片表面形成减反射膜,以提高最终所制作的太阳能电池片的光电转换效率。

具体来说,在硅片表面形成减反射膜时,将硅片挂设在石墨舟的石墨舟片上,并将石墨舟置于镀膜设备的镀膜腔内,然后在高温高压下电离镀膜腔内的反应气体,使得反应气体等离子化并发生化学反应。此时,反应产物沉积在硅片表面,使得硅片表面形成减反射膜。但是,采用PECVD在硅片表面形成减反射膜时容易出现绕镀问题,导致硅片边缘颜色异常,进而降低硅片镀膜良率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种电极片、载片器以及镀膜系统,以缓解表面成膜过程中绕镀所产生的硅片边缘颜色异常问题,从而提高硅片镀膜良率。

第一方面,本实用新型提供一种电极片。该电极片包括:至少一个载片单元。每个载片单元的至少一个表面具有载片区域和外围区域,外围区域位于载片区域的周向。每个载片单元的至少一个表面开设有用于抑制绕镀现象的至少一个槽体。至少一个槽体位于外围区域。本实用新型提供的电极片中,每个载片单元的至少一个表面开设有至少一个槽体,使得两个电极片相对设置的时候,至少一个电极片含有的槽体朝向另一电极片的表面,就能保证两个电极片开设槽体的区域距离比较大(相对于现有未开设槽体的方式)。基于此,当本实用新型实施例提供的电极片应用于石墨舟等载片器时,将需要成膜的基片挂设在载片器所含有的电极片上,并控制基片挂设于载片单元开设槽体的表面具有的载片区域。在此基础上,采用PECVD在基片表面成膜时,两个电极片开设槽体的区域之间的电场(下文简称槽体区域电场)强度可以在一定程度上抑制绕镀现象,使得两个电极片所挂设的基片表面形成厚度均匀的膜层,从而缓解表面成膜过程中绕镀所产生的硅片边缘颜色异常问题,进而提高硅片镀膜良率和太阳能电池片的生产效率。

在一种可能的实现方式中,每个载片单元的同一表面中,槽体的槽口靠近载片区域外边缘的一侧与载片区域的外边缘距离d1大于或等于0。

当d1=0时,槽体的槽口靠近载片区域外边缘的一侧实质已经与载片区域的外边缘重合,使得槽体区域电场与载片区域电场(即两个电极片所挂设的硅片等基片之间的电场)可以实现无缝叠加,以利用槽体区域电场最大限度绕镀所产生的硅片边缘颜色异常问题,提高硅片镀膜良率。

当d1>0时,槽体的槽口与载片区域的外边缘有一定的距离,使得槽体区域电场和载片区域电场之间的电场(下文简称过渡电场)强度受到槽体区域电场和载片区域电场共同影响。此时,沿着载片区域电场到槽体区域电场的方向,过渡电场的电场强度逐渐增高,因此,本实用新型提供的电极片在一定程度上可以缓解绕镀所产生的硅片边缘颜色异常问题,提高硅片镀膜良率。

在一种可能的实现方式中,每个载片单元的同一表面中,槽体的槽口靠近外围区域外边缘的一侧与外围区域的外边缘距离d2大于或等于0且小于d,d为载片区域的外边缘与外围区域的外边缘的距离。

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