[发明专利]封装体上功能凸点的设置方法及封装体的制备方法在审

专利信息
申请号: 202011626332.2 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN112820651A 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 刘在福;曾昭孔;郭瑞亮;陈武伟 申请(专利权)人: 苏州通富超威半导体有限公司
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L21/56
代理公司: 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人: 郭栋梁
地址: 215000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本申请公开一种封装体上功能凸点的设置方法及封装体的制备方法,通过在所述基板整面设置金属层;在金属层上形成图案化绝缘涂覆层,图案化绝缘涂覆层具有裸露出金属层的开口;去除金属层裸露出开口的部分,保留金属层覆盖于焊盘的部分;去除金属层覆盖于焊盘部分上的绝缘涂覆层,形成功能凸点。每个功能凸点的形状大小一致,相邻两个功能凸点的间距始终保持相同,较小的位置即可实现每个功能凸点的设置,预留较小的间距相邻两个功能凸点在焊接时也不会连接,因而封装体上可以设置较多数量的功能凸点,并且在两个封装体的功能凸点焊接连接时很容易对准。更多接头数量可减少布线宽度,实现堆叠封装结构的小型化、薄膜化。
搜索关键词: 封装 功能 设置 方法 制备
【主权项】:
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