[发明专利]一种单片式晶片清洁工艺有效
| 申请号： | 202011610338.0 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN112808668B | 公开（公告）日： | 2022-07-26 |
| 发明（设计）人： | 何淑英 | 申请（专利权）人： | 何淑英 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00;F26B21/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 35227 | 代理人： | 吴圳添 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙华*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及晶片清洁技术领域，具体为一种单片式晶片清洁工艺，包括机体、第一支架以及第二支架，所述第一支架的上端以及第二支架的上端均设有传动轴，所述传动轴之间设有传送网带连接，所述传送网带上设有存放盒，所述机体上设有工作台、第一存放仓以及第二存放仓，所述第一存放仓的内部依次设有第一清洗箱、化学液存储箱以及第二清洗箱，所述第二存放仓的内部依次设有第一回收箱、化学液回收箱以及第二回收箱，所述工作台安装在机体的上端，所述工作台上依次设有清水冲洗仓、化学冲洗仓、清洗仓以及烘干仓，通过清水冲洗仓进行首次冲洗，通过化学冲洗仓进行化学反应吸附冲洗，通过清洗仓进行最后一遍的冲刷，通过烘干仓进行烘干。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单片 晶片 清洁 工艺 | ||
【主权项】：
暂无信息
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