[发明专利]一种单片式晶片清洁工艺

权利要求书

1.一种单片式晶片清洁工艺，其特征在于，包括以下结构及步骤：所述结构包括机体(1)、第一支架(8)以及第二支架(9)，所述第一支架(8)的上端以及第二支架(9)的上端均设有传动轴(12)，所述传动轴(12)之间设有传送网带(13)连接，所述传送网带(13)上设有存放盒(21)，所述存放盒(21)上设有通孔(23)，所述机体(1)上设有工作台(15)、第一存放仓以及第二存放仓，所述第一存放仓以及第二存放仓位于机体(1)的内部，并且所述第一存放仓与第二存放仓之间设有隔板(30)，所述第一存放仓的内部依次设有第一清洗箱(5)、化学液存储箱(6)以及第二清洗箱(7)，所述第二存放仓的内部依次设有第一回收箱(4)、化学液回收箱(2)以及第二回收箱(3)，所述工作台(15)安装在机体(1)的上端，所述工作台(15)上依次设有清水冲洗仓(16)、化学冲洗仓(17)、清洗仓(18)以及烘干仓(26)，并且所述清水冲洗仓(16)、化学冲洗仓(17)以及清洗仓(18)的下端均设有导流槽(11)，且所述导流槽(11)分别连接第一回收箱(4)、化学液回收箱(2)以及第二回收箱(3)，所述清水冲洗仓(16)、化学冲洗仓(17)以及清洗仓(18)的内部均设有喷头(24)，所述喷头(24)分别安装在清水冲洗仓(16)、化学冲洗仓(17)以及清洗仓(18)的内壁上，并且分别与第一清洗箱(5)、化学液存储箱(6)以及第二清洗箱(7)之间设有连通管(31)连接，所述化学冲洗仓(17)以及清洗仓(18)的上端均设有吸风机(19)，所述吸风机(19)上设有吸风板(20)，所述吸风板(20)安装在吸风机(19)的下端，所述烘干仓(26)的上端设有热风机(27)，所述热风机(27)上设有热风口(28)，并且所述热风口(28)位于烘干仓(26)的内部；

所述步骤包括：

第一步：单片晶传送，将单片晶放置在存放盒(21)上通过传动轴(12)的相互配合对其进行传送；

第二步：单片晶预洗处理，单片晶在存放盒(21)上被运输到清水冲洗仓(16)中，第一清洗箱(5)给清水冲洗仓(16)提供清水，通过清水对其进行轻度冲洗，冲刷掉单片晶上的颗粒杂物，并且在此过程中，清洗冲洗仓(16)内部水通过第一回收箱(4)来回收处理；

第三步：单片晶清洗处理，单片晶在存放盒(21)上被运输到化学冲洗仓(17)中，通过化学液存储箱(6)给化学冲洗仓(17)提供化学液，通过化学液对单片晶进行化学冲洗，并且在此过程中，需要通过吸风机(19)将存放盒(21)内的单片晶吸附到吸风板(20)上，从而对存放盒(21)进行冲洗，冲洗完毕后，吸风机(19)关闭，单片晶进一步的落到存放盒(21)中；

第四步：单片晶冲刷处理，单片晶在存放盒(21)上被运输到清洗仓(18)中，第二清洗箱(7)给清洗仓(18)提供清洗液，从而对化学清洗完毕后的单片晶进行冲洗，保证单片晶上不会存在剩余残留物；

第五步：单片晶烘干处理，单片晶在存放盒(21)上被运输到烘干仓(26)中，通过热风机(27)产生的热风带走冲洗完毕后的单片晶上剩余的清洗液。

2.根据权利要求1所述的一种单片式晶片清洁工艺，其特征在于，所述烘干仓(26)上设有电热管(29)，所述电热管(29)安装在烘干仓(26)的内壁上。

3.根据权利要求1所述的一种单片式晶片清洁工艺，其特征在于，所述清水冲洗仓(16)、化学冲洗仓(17)、清洗仓(18)以及烘干仓(26)上均设有视镜，所述视镜安装在清水冲洗仓(16)、化学冲洗仓(17)、清洗仓(18)以及烘干仓(26)的一侧。

4.根据权利要求3所述的一种单片式晶片清洁工艺，其特征在于，所述视镜的材质为防雾钢化玻璃。

5.根据权利要求1所述的一种单片式晶片清洁工艺，其特征在于，所述清洗仓(18)的内部设有超声波发生器(25)，所述超声波发生器(25)安装在清洗仓(18)的两侧。

6.根据权利要求1所述的一种单片式晶片清洁工艺，其特征在于，所述存放盒(21)上设有存放板(22)，所述存放板(22)安装在存放盒(21)的中间部分。