[发明专利]一种等离子体处理设备及工作方法在审
| 申请号： | 202011605586.6 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN114695049A | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 倪图强;黄允文;吴磊;王凯麟 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 贾慧琴;包姝晴 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子体处理设备及工作方法，包括：真空的反应腔体，其侧壁上设有第一开口；基座，位于所述反应腔体内底部，用于承载基片；气体喷淋头，位于所述反应腔体内顶部，且与基座相对设置；内衬，位于反应腔体的侧壁的内侧，所述内衬设有第二开口，所述第二开口与所述第一开口相对设置，供基片进出反应腔体；接地环，设于所述基座的外围，且与所述内衬连接；导电遮挡部件，用于遮挡第二开口，且所述气体喷淋头、反应腔体的顶部、内衬、导电遮挡部件与接地环之间形成射频回路；第一驱动装置，驱动所述导电遮挡部件上下移动，以遮挡或者打开所述第二开口。本发明设置导电遮挡部件，遮挡内衬处的缺口，保证内衬的完整性，使射频回路均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 处理 设备 工作 方法 | ||
【主权项】：
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