[发明专利]厚尺寸红外光学材料的制备方法

摘要

本公开提供了一种厚尺寸红外光学材料的制备方法。其包括骤：(S1)：以化学气相沉积法获得的红外光学材料为基板，研磨抛光；(S2)：对基板进行等离子清洗；(S3)：将基板放置于化学气相沉积炉的沉积室，向化学气相沉积炉中的坩埚内装入反应固体；(S4)：对化学气相沉积炉进行抽真空；(S5)：将沉积室温度缓慢升至600‑850℃之间；将坩埚的温度缓慢升至500‑800℃；(S6)：分别以反应固体的蒸气、反应气体为原料，以氩气作为反应固体的蒸气和反应气体的载气通入沉积室；(S7)：坩埚内的反应固体蒸发完毕，停止向沉积室通入反应气体，对沉积室和坩埚进行降温；(S8)：研磨抛光，然后放置于热等静压炉中，恒温恒压处理时间为40‑250h；(S9)：降温降压然后出炉。