[发明专利]半导体器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202011441786.2 申请日: 2020-12-08
公开(公告)号: CN113594176A 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 杨丰诚;林孟汉;贾汉中;王圣祯;林仲德 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/1159 分类号: H01L27/1159;H01L27/11597;H01L27/108;H01L21/8242;H01L27/11;H01L21/8244;H01L27/22;H01L27/24
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供了一种半导体器件及其制造方法。在实施例中,通过在不同且独立的工艺过程中制造字线的部分来形成存储器阵列,从而允许首先形成的部分在之后的工艺过程中用作结构支撑,否则将对结构造成不期望的损坏。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011441786.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top