[发明专利]具有静电卡盘的基板处理装置及基板处理方法在审
| 申请号： | 202011371910.2 | 申请日： | 2020-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN112992639A | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 野泽俊久 | 申请（专利权）人： | ASMIP私人控股有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/683;C23C16/458;C23C16/50 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 焦玉恒 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 基板处理装置的示例包括：腔室；设置在腔室内的上盖；静电卡盘，其包括电介质体的环形部分和嵌入该环形部分中的嵌入电极，该静电卡盘设置在腔室内；以及等离子体单元，配置为在上盖和静电卡盘下方的区域中产生等离子体，其中，环形部分包括位于上盖的紧下方的环形第一上表面和位于上盖的紧下方并围绕第一上表面的第二上表面，第二上表面具有高于第一上表面的高度的高度。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 静电 卡盘 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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