[发明专利]一种应用于深亚微米级电路静电防护的可控硅器件在审
| 申请号: | 202011349222.6 | 申请日: | 2020-11-26 |
| 公开(公告)号: | CN112466938A | 公开(公告)日: | 2021-03-09 |
| 发明(设计)人: | 曾传滨;李晓静;闫薇薇;高林春;倪涛;单梁;王加鑫;李多力;赵发展;罗家俊;韩郑生 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号: | H01L29/74 | 分类号: | H01L29/74;H01L29/06;H01L27/02 |
| 代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 房德权 |
| 地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明涉及可控硅静电保护技术领域,具体涉及一种应用于深亚微米级电路静电防护的可控硅器件。该结构中,N型阱区中的上部并排设置有第一N型重掺杂区和第一P型重掺杂区,以形成第一空白掺杂区;P型阱区中的上部并排设置有第二N型重掺杂区和第二P型重掺杂区,以形成第二空白掺杂区;多晶硅与第一空白掺杂区存在重合区域,且覆盖第二空白掺杂区的顶部;硅化物阻隔层与第一P型重掺杂区存在重合区域,并与多晶硅存在重合区域,还覆盖第二空白掺杂区的顶部中多晶硅未覆盖区域。本发明利用硅化物阻挡层良好的限流能力,提高了SCR泄放静电电流的能力,并且使SCR具备较低维持电压,满足了深亚微米级电路静电放电保护要求。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 应用于 微米 电路 静电 防护 可控硅 器件 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011349222.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类





