[发明专利]一种靶向治疗易损斑块的相变型多模态纳米造影剂在审
| 申请号： | 202011347575.2 | 申请日： | 2020-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN112656955A | 公开（公告）日： | 2021-04-16 |
| 发明（设计）人： | 周君;侯静馨;郭大静;徐杰 | 申请（专利权）人： | 重庆医科大学附属第二医院 |
| 主分类号： | A61K49/00 | 分类号： | A61K49/00;A61K49/12 |
| 代理公司： | 重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙) 50221 | 代理人： | 崔雷 |
| 地址： | 400010*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种靶向治疗易损斑块的相变型多模态纳米造影剂，包含壳膜和被壳膜包裹的核心，所述壳膜为PLGA‑PEG‑PLGA，所述核心为PFH和Fe |
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| 搜索关键词： | 一种 靶向 治疗 易损 相变 型多模态 纳米 造影 | ||
【主权项】：
暂无信息
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