[发明专利]气体供给系统及其控制方法、等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202011267533.8 | 申请日： | 2020-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN112825296A | 公开（公告）日： | 2021-05-21 |
| 发明（设计）人： | 郑和俊;北邨友志 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开提供一种气体供给系统及其控制方法、等离子体处理装置，能够响应性良好地分配气体。该气体供给系统被连接在具有第一气体入口和第二气体入口的腔室与气体源之间，并且具有：流量调整单元，其具备多个流量调整线路，各流量调整线路具有成对的第一线路和第二线路，第一线路将气体源与第一气体入口连接，并且所述第一线路具有第一阀和第一节流孔，第二线路将气体源和第二气体入口连接，并且所述第二线路具有第二阀和第二节流孔，各流量调整线路中第一节流孔和第二节流孔具有相同的尺寸；以及控制部，其构成为控制各流量调整线路中的第一阀和第二阀的开闭。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 供给 系统 及其 控制 方法 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社，未经东京毅力科创株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011267533.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：半导体装置
- 下一篇：推定汽油中的硫成分的浓度的方法
