[发明专利]气体供给系统及其控制方法、等离子体处理装置

权利要求书

1.一种气体供给系统，被连接在具有第一气体入口和第二气体入口的腔室与至少一个气体源之间，所述气体供给系统具有：

流量调整单元，其具备多个流量调整线路，各流量调整线路具有成对的第一线路和第二线路，所述第一线路将所述至少一个气体源与所述第一气体入口连接，并且所述第一线路具有第一阀和第一节流孔，所述第二线路将所述至少一个气体源与所述第二气体入口连接，并且所述第二线路具有第二阀和第二节流孔，各流量调整线路中所述第一节流孔和所述第二节流孔具有相同的尺寸；以及

至少一个控制部，其构成为控制各流量调整线路中的所述第一阀和所述第二阀的开闭。

2.根据权利要求1所述的气体供给系统，其特征在于，

所述多个流量调整线路中的一个流量调整线路的节流孔的尺寸与所述多个流量调整线路中的其它流量调整线路的节流孔的尺寸不同。

3.根据权利要求2所述的气体供给系统，其特征在于，

所述多个流量调整线路具有第一流量调整线路、第二流量调整线路、第三流量调整线路、第四流量调整线路、第五流量调整线路以及第六流量调整线路，

所述第二流量调整线路中的第一节流孔和第二节流孔的孔径为所述第一流量调整线路中的第一节流孔和第二节流孔的孔径的5/8，

所述第三流量调整线路中的第一节流孔和第二节流孔的孔径为所述第一流量调整线路中的第一节流孔和第二节流孔的孔径的4/9，

所述第四流量调整线路中的第一节流孔和第二节流孔的孔径为所述第一流量调整线路中的第一节流孔和第二节流孔的孔径的1/3，

所述第五流量调整线路中的第一节流孔和第二节流孔的孔径为所述第一流量调整线路中的第一节流孔和第二节流孔的孔径的2/9，

所述第六流量调整线路中的第一节流孔和第二节流孔的孔径为所述第一流量调整线路中的第一节流孔和第二节流孔的孔径的1/6。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的气体供给系统，其特征在于，

所述至少一个控制部具有表，在所述表中将从所述至少一个气体源供给的气体分流供给至所述第一气体入口的流量与供给至所述第二气体入口的流量的流量比同各流量调整线路中的所述第一阀及所述第二阀的开闭进行了对应，

所述至少一个控制部构成为：基于接收到的与流量比有关的数据以及所述表，来控制各流量调整线路中的所述第一阀和所述第二阀的开闭。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的气体供给系统，其特征在于，

所述至少一个控制部构成为：控制所述流量调整单元，以将所述多个流量调整线路的各流量调整线路的第一阀中的多个第一阀设为开，以及/或者将所述多个流量调整线路的各流量调整线路的第二阀中的多个第二阀设为开。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的气体供给系统，其特征在于，

所述至少一个控制部构成为：在将所述多个流量调整线路的各流量调整线路的第一阀中的多个第一阀设为开的情况下，控制所述流量调整单元以将所述多个第一阀从离所述腔室远的阀起依次设为开，

并且，所述至少一个控制部构成为：在将所述多个流量调整线路的各流量调整线路的第二阀中的多个第二阀设为开的情况下，控制所述流量调整单元以将所述多个第二阀从离所述腔室远的阀起依次设为开。

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的气体供给系统，其特征在于，

在所述多个流量调整线路的各流量调整线路的所述第一线路中，在所述第一节流孔的上游侧配置所述第一阀，

在所述多个流量调整线路的各流量调整线路的所述第二线路中，在所述第二节流孔的上游侧配置所述第二阀。

8.一种等离子体处理装置，具备：

腔室，其具有第一气体入口、第二气体入口以及等离子体处理空间，所述等离子体处理空间与所述第一气体入口及所述第二气体入口呈流体连通；以及

根据权利要求1至权利要求7中的任一项所述的气体供给系统。