[发明专利]一种硅柱晶圆光刻设备

摘要

本发明公开了一种硅柱晶圆光刻设备，其结构包括光刻仓、密封门、机体，密封门与机体活动卡合，机体安装于光刻仓的前端位置，通过对硅柱晶圆进行轻微施压，从而使硅柱晶圆能够向下挤压两个外扩板的中部，故而使两个外扩板能够在伸缩架的配合下向两侧滑动展开，且通过助推片对外扩板产生的推力，能够使两个外扩板对硅柱晶圆的侧面进行夹持，从而能够防止硅柱晶圆上的掩膜版因光刻胶过厚导致滑动偏移的情况，通过硅柱晶圆对吸附盘产生的挤压，能够使吸附盘在回弹板的配合下向下收缩，从而使气密块能够对吸附盘中部的孔进行密封，故而使吸附盘能够吸附在硅柱晶圆的底部，有效的避免了硅柱晶圆会在两个外扩板之间被向上挤出的情况。