[发明专利]一种硅柱晶圆光刻设备

权利要求书

1.一种硅柱晶圆光刻设备，其结构包括光刻仓(1)、密封门(2)、机体(3)，所述密封门(2)与机体(3)活动卡合，其特征在于：所述机体(3)安装于光刻仓(1)的前端位置；

所述机体(3)包括外壳(31)、操作台(32)、光照射灯(33)，所述操作台(32)嵌固于外壳(31)的内部位置，所述光照射灯(33)安装于外壳(31)的内壁上端位置。

2.根据权利要求1所述的一种硅柱晶圆光刻设备，其特征在于：所述操作台(32)包括外扩板(a1)、伸缩架(a2)、底板(a3)、挡板(a4)、助推片(a5)，所述外扩板(a1)通过伸缩架(a2)与挡板(a4)活动卡合，所述伸缩架(a2)嵌固于底板(a3)的上表面位置，所述助推片(a5)安装于外扩板(a1)与挡板(a4)之间。

3.根据权利要求2所述的一种硅柱晶圆光刻设备，其特征在于：所述外扩板(a1)包括接触板(a11)、伸出杆(a12)、复位块(a13)、打底板(a14)，所述接触板(a11)与打底板(a14)为一体化结构，所述伸出杆(a12)的左侧与打底板(a14)嵌固连接，且伸出杆(a12)又与接触板(a11)间隙配合，所述复位块(a13)安装于接触板(a11)与打底板(a14)之间。

4.根据权利要求3所述的一种硅柱晶圆光刻设备，其特征在于：所述伸出杆(a12)包括板体(b1)、前摆板(b2)、弹性片(b3)、助力球(b4)，所述前摆板(b2)与板体(b1)的右侧铰链连接，所述弹性片(b3)嵌固于两个前摆板(b2)之间，所述助力球(b4)安装于板体(b1)的内部位置。

5.根据权利要求2所述的一种硅柱晶圆光刻设备，其特征在于：所述底板(a3)包括底置板(c1)、气密块(c2)、回弹板(c3)、吸附盘(c4)，所述气密块(c2)嵌固于底置板(c1)的内壁底部位置，所述回弹板(c3)与底置板(c1)为一体化结构，所述吸附盘(c4)的底部与回弹板(c3)相连接。

6.根据权利要求5所述的一种硅柱晶圆光刻设备，其特征在于：所述气密块(c2)包括承接板(c21)、堵塞球(c22)、中固杆(c23)、弹力杆(c24)，所述堵塞球(c22)嵌固于弹力杆(c24)的外端位置，所述中固杆(c23)与承接板(c21)为一体化结构,所述弹力杆(c24)安装于中固杆(c23)的外侧位置。

7.根据权利要求6所述的一种硅柱晶圆光刻设备，其特征在于：所述承接板(c21)包括结合板(d1)、联动杆(d2)、内接板(d3)、外触板(d4)，所述结合板(d1)通过联动杆(d2)与内接板(d3)活动卡合，所述外触板(d4)嵌固于结合板(d1)的外侧位置。