[发明专利]混合自旋转移矩磁性随机存取存储器(H-STT-MRAM)在审

专利信息
申请号: 202011025687.6 申请日: 2020-09-25
公开(公告)号: CN112652339A 公开(公告)日: 2021-04-13
发明(设计)人: 霍素国;张瑞华 申请(专利权)人: 霍素国
主分类号: G11C11/16 分类号: G11C11/16;H01L43/08
代理公司: 北京久维律师事务所 11582 代理人: 邢江峰
地址: 英国37A埃罗尔花*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明是一种由非磁夹层隔离的垂直磁向异性磁隧道结(pma‑MTJ)和面内磁向异性磁隧道结(ima‑MTJ)面对面堆叠组成的混合型自旋转移矩磁阻随机存取存储器(H‑STT‑MRAM)。其中在任一个MTJ磁自由层写入时,会受到来自另一个MTJ磁自由层通过非磁夹层施加的一个垂直于普通自旋转移矩(STT)的附加自旋转移矩(STT)来协助写入,以提高MTJ的写入性能。还提出了一种由Ru夹层隔开的两个磁自由层组成的合成反铁磁体自由层(SAF FL)结构来替代ima‑MTJ中的磁自由层(FL),以改善其面内磁向异性自由层存储的稳定性,从而由进一步减小存储单元的尺寸来实现ima‑MTJ和pma‑MTJ面内尺寸匹配的高密度存储。还提出了高位H‑STST‑MRAM器件及其读、写方法和其组成的2D和3D阵列以实现超高面密度存储。
搜索关键词: 混合 自旋 转移 磁性 随机存取存储器 stt mram
【主权项】:
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