[发明专利]斜面型金属化薄膜及其制备装置和加工方法有效

专利信息
申请号: 202011014591.X 申请日: 2020-09-24
公开(公告)号: CN112366081B 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 刘同林;汪秀义 申请(专利权)人: 铜陵市超越电子有限公司
主分类号: H01G4/005 分类号: H01G4/005;H01G4/33;H01G13/00
代理公司: 合肥东信智谷知识产权代理事务所(普通合伙) 34143 代理人: 周锋
地址: 244000 安徽省铜陵市狮子山*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 斜面型金属化薄膜及其制备装置和加工方法,包括基膜,所述基膜顶面设置有斜面型金属层,基膜顶面一侧设置有留边,所述基膜厚度均匀性为±0.01mm;包括机台,所述机台顶面固定有箱体,第一挡板与箱体分隔区域为冷却区,第一挡板与第二挡板分隔区域为热处理区,第二挡板与第三挡板分隔区为监测区,第三挡板与箱体分割区域为辊压区;S1、高均匀性基膜制备;S2、斜面型金属层蒸镀;本发明基膜在经过辊压区进行均匀性滚压,保证基膜整体平面水平均匀,再通过监测区对基膜厚度监测,根据监测结果,为保证均匀厚度,在经过热处理区时会进行进一步加工,使得基膜具有高均匀性,最后经过蒸镀在高均匀性的基膜表面形成均匀的斜面型金属层。
搜索关键词: 斜面 金属化 薄膜 及其 制备 装置 加工 方法
【主权项】:
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