[发明专利]薄膜沉积腔、多功能遮蔽盘以及多功能遮蔽盘的使用方法有效

专利信息
申请号: 202011000987.9 申请日: 2020-09-22
公开(公告)号: CN112680710B 公开(公告)日: 2023-05-05
发明(设计)人: 郑文豪;陈彦羽;戴逸明 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C16/54
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本揭露提供一种薄膜沉积腔、多功能遮蔽盘以及多功能遮蔽盘的使用方法。该遮蔽盘包括该遮蔽盘的一个表面上的一灯装置、一DC/RF电力装置,及一气体管道。运用此组态能够简化腔的类型,而不需要诸如一除气腔、一预清洗腔、一CVD/PVD腔的各种特定专用腔。通过使用该多功能遮蔽盘,除气功能及预清洗功能提供于一单一腔内。因此,一分离除气腔及一预清洗腔不再被需要,且腔之间的总传送时间被减小或消除。
搜索关键词: 薄膜 沉积 多功能 遮蔽 以及 使用方法
【主权项】:
暂无信息
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