[发明专利]一种激光能量的调节装置在审
| 申请号： | 202010994214.0 | 申请日： | 2020-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN112038267A | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | 张宇;陆宏煜;张文;崔加旺;谢银;谢经宝;何煦;侯海旺 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01S3/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄丽 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种激光能量的调节装置，该装置在保证输出的激光总能量满足生产要求的情况下，通过使每个激光产生单元输出激光能量尽量保持一致，从而提高在制备显示面板时的产品良率。该装置包括：PC端与多个激光产生单元，每个激光产生单元的输出端连接对应的第一能量监控器，第一能量监控器的输出端都与PC端的输入端连接；第一能量监控器检测激光产生单元输出的激光的第一能量值并反馈给PC端；PC端确定第一能量值与预设能量值不相同，则确定第一能量值与预设能量值的差值，并基于差值与激光产生单元的内部电压的对应关系向激光产生单元发送控制指令；激光产生单元基于控制指令调整自身内部电压以使输出的激光能量达到预设能量值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 能量 调节 装置 | ||
【主权项】：
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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