[发明专利]一种激光能量的调节装置在审

专利信息
申请号: 202010994214.0 申请日: 2020-09-21
公开(公告)号: CN112038267A 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 张宇;陆宏煜;张文;崔加旺;谢银;谢经宝;何煦;侯海旺 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01S3/00
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄丽
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 激光 能量 调节 装置
【说明书】:

发明实施例提供一种激光能量的调节装置,该装置在保证输出的激光总能量满足生产要求的情况下,通过使每个激光产生单元输出激光能量尽量保持一致,从而提高在制备显示面板时的产品良率。该装置包括:PC端与多个激光产生单元,每个激光产生单元的输出端连接对应的第一能量监控器,第一能量监控器的输出端都与PC端的输入端连接;第一能量监控器检测激光产生单元输出的激光的第一能量值并反馈给PC端;PC端确定第一能量值与预设能量值不相同,则确定第一能量值与预设能量值的差值,并基于差值与激光产生单元的内部电压的对应关系向激光产生单元发送控制指令;激光产生单元基于控制指令调整自身内部电压以使输出的激光能量达到预设能量值。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种激光能量的调节装置。

背景技术

目前在制备显示面板中阵列基板的有源层时,通常采用准分子激光退火工艺将非晶硅快速熔融,并重新结晶形成多晶硅,使得有源层具有载流子迁移率高、稳定性好等特性。现有技术中在使用准分子激光退火工艺制备有源层时,通常将2个、4个或6个激光器组合使用,并且通过光学系统将多个激光器对应的激光束进行合束处理后作用于非晶硅材料。当需要对输出激光的总能量进行调节时,可以通过电压补偿的方式对输出激光的总能量进行调节,即只能同时对全部激光器进行调节,并未考虑到不同的激光器之间输出的激光能量均衡性问题以及单只激光器由于自身性能问题所导致的输出的激光能量波动较大的问题,从而导致形成的多晶硅中不同区域结晶质量存在差异,进而使显示面板的良率较低。

可见,现有技术中虽然通过统一调节多只激光器使其输出的激光总能量满足工艺要求,但是仍然存在不同激光器之间输出的激光能量不均衡的问题以及单只激光器输出的激光能量波动较大的问题,这将导致形成的多晶硅质量较差,进而使得显示面板的良率较低。

发明内容

本发明实施例提供了一种激光能量调节装置,该装置在保证输出的激光总能量满足生产要求的情况下,通过使每个激光产生单元输出激光能量尽量保持一致,从而提高显示面板的产品良率。

第一方面,本发明实施例提供了一种激光能量调节装置,所述装置包括:PC端以及与所述PC端连接的多个激光产生单元,所述多个激光产生单元中每个激光产生单元的输出端连接一一对应的第一能量监控器,所述第一能量监控器的输出端都与所述PC端的输入端连接;

所述第一能量监控器用于检测所述激光产生单元输出的激光的第一能量值,并将所述第一能量值反馈给所述PC端;

若所述PC端确定所述第一能量值与预设能量值不相同,则确定所述第一能量值与所述预设能量值的第一差值,并基于所述第一差值与所述激光产生单元的内部电压的对应关系向所述激光产生单元发送第一控制指令;

所述激光产生单元基于所述第一控制指令调整自身内部电压以使输出的激光能量达到所述预设能量值。

本发明实施例中,多个激光产生单元分别在PC端的控制下产生一定能量值的激光,同时为每个激光产生单元配置有第一能量监控器,即通过第一能量监控器可以检测对应的激光产生单元输出激光的能量值,例如第一能量值。那么针对某个激光产生单元而言,由于PC端中存储有预设能量值,该预设能量值可以认为是为满足特定的工艺生产需求而使每个激光产生单元必须输出的能量值,PC端一旦确定第一能量值与预设能量值不相等,可以基于预设的能量值以及第一能量值的差值与激光产生单元内部电压的对应关系对激光产生单元内部的电压进行调节,最终使第一能量值与预设能量值相等。同理,PC端对其他的激光产生单元输出的激光能量值也进行上述调节,使得每个激光产生单元输出的能量值都达到预设能量值。该激光能量调节装置在保证输出的激光总能量满足生产要求的情况下,通过使每个激光产生单元输出激光能量保持一致,从而提高显示面板的产品良率。

可选的,每个所述激光产生单元包括依次连接的高压电源、全固态脉冲发生器以及准分子激光器,所述准分子激光器的输出端与对应的第一能量监控器连接;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010994214.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top