[发明专利]一种自动定位式传感器单晶硅刻蚀装置在审

专利信息
申请号: 202010978877.3 申请日: 2020-09-17
公开(公告)号: CN112647135A 公开(公告)日: 2021-04-13
发明(设计)人: 赵浩;李洪武;周丽;丁立军;王挺;许聚武;陈晟;习聪玲 申请(专利权)人: 嘉兴学院
主分类号: C30B33/12 分类号: C30B33/12;C30B29/06
代理公司: 北京化育知识产权代理有限公司 11833 代理人: 涂琪顺
地址: 314001 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种自动定位式传感器单晶硅刻蚀装置,包括反应室本体,所述反应室本体内设置有片架,所述反应室本体上固定安装有片架旋转机构,所述片架旋转机构的动力输出轴与片架固定连接,所述片架的轴线、片架旋转机构的动力输出轴的轴线与反应室本体的轴线相重合,所述反应室本体的内壁上固定安装有若干独立定位组件,若干所述独立定位组件可伸缩且可与片架相接触。本发明通过独立控制的定位组件和实时验证组件可实现对片架进行实时的自动定位,并可自动适应在一定范围内不同规格的片架,可大幅提升定位的准确性,确保了片架处于反应室本体的轴线位置,通用性强,可大幅提升片架中多个单晶硅刻蚀加工的精度。
搜索关键词: 一种 自动 定位 传感器 单晶硅 刻蚀 装置
【主权项】:
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