[发明专利]掩膜装置以及掩膜制造方法在审
申请号: | 202010959690.9 | 申请日: | 2018-08-03 |
公开(公告)号: | CN112030103A | 公开(公告)日: | 2020-12-04 |
发明(设计)人: | 浅野邦一;福居克幸;土桥美博 | 申请(专利权)人: | 株式会社饭沼GAUGE制作所 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04 |
代理公司: | 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 | 代理人: | 郁旦蓉 |
地址: | 日本国长野县茅野市*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 【课题】提供一种掩膜制造装置以及使用该掩膜制造装置的掩膜制造方法,其能够制造出:掩膜图案开口部不会产生变形的,能够抑制掩膜图案开口部的纵方向与横方向之间出现尺寸偏差掩膜。【解决手段】本发明的掩膜制造装置20以及掩膜制造方法,具有:掩膜片保持部25,配置在掩膜开口部8中,并且具有磁吸盘53,能够在对掩模图案形成区域6的外侧边缘部2a进行磁吸附的吸附状态与非吸附状态之间进行切换;对准摄像头27,用于检测在每个掩膜片2上设置的多个对准孔7相对于玻璃母板26上设置的多个对准记号63的偏移量;粗动平台51以及细动平台52,移动掩膜片保持部25从而对偏移量进行补正;以及作为接合装置的焊接机器人28A、28B,将掩膜图案形成区域6的外侧边缘部2a与掩膜开口部8的外侧边缘部3a接合。 | ||
搜索关键词: | 装置 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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