[发明专利]掩膜装置以及掩膜制造方法

说明书

【课题】提供一种掩膜制造装置以及使用该掩膜制造装置的掩膜制造方法，其能够制造出：掩膜图案开口部不会产生变形的，能够抑制掩膜图案开口部的纵方向与横方向之间出现尺寸偏差掩膜。【解决手段】本发明的掩膜制造装置20以及掩膜制造方法，具有：掩膜片保持部25，配置在掩膜开口部8中，并且具有磁吸盘53，能够在对掩模图案形成区域6的外侧边缘部2a进行磁吸附的吸附状态与非吸附状态之间进行切换；对准摄像头27，用于检测在每个掩膜片2上设置的多个对准孔7相对于玻璃母板26上设置的多个对准记号63的偏移量；粗动平台51以及细动平台52，移动掩膜片保持部25从而对偏移量进行补正；以及作为接合装置的焊接机器人28A、28B，将掩膜图案形成区域6的外侧边缘部2a与掩膜开口部8的外侧边缘部3a接合。

技术领域

本发明涉及掩膜制造装置以及使用该掩膜制造装置的掩膜制造方法。

背景技术

近年来，有机EL(Organic Electro Luminescence)作为一种薄型显示设备(Display device)越来越受到关注。有机EL显示设备由于能够自我发光，因此其具有对比度高且可视范围大等优点。这种有机EL显示设备通常是使用具有与发光层等的图案(Pattern)相对应的图案开口部的掩膜(Mask)并通过真空蒸着法来进行制造的。近年来，出于行业需求，有机EL显示设备的尺寸变得越来越大，随之而来就是掩膜的尺寸也越来越大，这就产生出了掩膜容易弯曲这一问题。

专利文献1中及公开一种掩膜，其是由：具有掩膜图案形成区域的磁性金属掩膜片(Mask sheet)；以及具有被磁化的平坦部的掩膜框(Mask frame)所构成，其中，该平坦部用于吸附掩膜片，该掩膜片具备与掩膜图案形成区域相对应的掩膜开口部，通过将掩膜片磁吸附在掩膜框的平坦部上来构成掩膜。

另外，专利文献2中公开了一种掩膜制造装置，其是通过对掩膜片施加一个方向上的张力来消除弯曲，并通过掩膜片保持机构使掩膜片与掩膜框紧密贴合后，再利用激光焊接来实现一体化。

几年来，有机EL显示设备用掩膜在实现6G(第6代产品)或6Ghalf(6代半产品)的同时，其尺寸也越来越大。为了应对这种大尺寸化的趋势，将掩膜片分割为多个小型掩膜片(也称为单位掩膜片)，通过在单个掩膜框的规定位置上将多个小型掩膜片进行排列后进行固定从而来实现大尺寸化的技术方案得以被提出。专利文献3中就公开了这样一种掩膜制造方法，其将多片具有图案开口部的长条形的掩膜片进行排列后，通过掩膜框对这些掩膜片施加长度方向上的张力从而来形成掩膜构造体。

【先行技术文献】

【专利文献1】特开2006-221911号公报

【专利文献2】特开2015-1012号公报

【专利文献3】特开2003-217850号公报

专利文献1中所记载的掩膜是通过将掩膜片磁吸附在掩膜框上来消除掩膜片的弯曲，并利用掩膜片磁吸附在掩膜框后的掩膜来对发光层进行真空蒸着的方法，然而，在这种掩膜中，由于掩膜片与掩膜框之间未被进行机械性的固定，因此在通过将多个掩膜片排列来制造大尺寸的掩膜时，就存在有多个掩膜片之间的相对位置容易产生偏移的问题。

另外，在专利文献2以及专利文献3中，同样采用了对掩膜片施加一个方向上的张力来将掩膜片固定在掩膜框上，从而防止掩膜片产生弯曲的方法。但是，对掩膜片施加一个方向上的张力会使掩膜图案开口部产生变形，这样一来就会导致掩膜图案开口部的纵方向与横方向之间出现尺寸偏差，而想要对这种尺寸偏差进行补正则是非常困难的。

因此，为了解决上述问题，本发明的目的是提供一种掩膜制造装置以及使用该掩膜制造装置的掩膜制造方法，其能够制造出：掩膜图案开口部不会产生变形的，能够抑制掩膜图案开口部的纵方向与横方向之间出现尺寸偏差的，并且多个掩膜片之间的相对位置的偏移较小的，适合于大尺寸化的掩膜。

发明内容