[发明专利]半导体存储器件在审

专利信息
申请号: 202010902350.2 申请日: 2020-09-01
公开(公告)号: CN112510049A 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 孙龙勋;金哉勋;朴光浩;宋炫知;李耕希;郑承宰 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11517 分类号: H01L27/11517;H01L27/11521;H01L27/11526;H01L27/11563;H01L27/11568;H01L27/11573
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 屈玉华
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了一种半导体存储器件。该器件包括:在衬底上的外围电路结构;在外围电路结构上的半导体层;在半导体层上的电极结构,该电极结构包括堆叠在半导体层上的电极;垂直沟道结构,其穿透电极结构并且连接到半导体层;分离结构,其穿透电极结构,在第一方向上延伸并且将电极结构的电极水平地分成一对电极;覆盖电极结构的层间绝缘层;以及穿透层间绝缘层并且电连接到外围电路结构的贯穿接触。
搜索关键词: 半导体 存储 器件
【主权项】:
暂无信息
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