[发明专利]用于光刻工艺的定位方法及定位标识有效
| 申请号： | 202010895384.3 | 申请日： | 2020-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN111965961B | 公开（公告）日： | 2023-03-10 |
| 发明（设计）人： | 刘召军;蒋府龙;刘亚莹 | 申请（专利权）人： | 南方科技大学 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 潘登 |
| 地址： | 518055 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种用于光刻工艺的定位方法及定位标识，所述方法包括：获取第一光罩制程形成的第一定位标识，第一定位标识包括相互平行的第一侧边和第二侧边；获取第二光罩制程形成的第二定位标识，第二定位标识包括第三侧边和第四侧边，第三侧边和第一侧边平行，第四侧边和第二侧边相交的角度小于45度；根据第四侧边和第二侧边的相交角度和相交位置确定第三侧边和第一侧边之间的偏差。本发明通过比对第一定位标识和第二定位标识，利用两层定位标识的相交关系放大光刻图形在一个方向上的偏移量，解决了由于人眼极限和设备对准精度局限导致不能精准对半导体器件进行定位的技术问题，实现了智能提高光刻定位精度的技术效果。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 工艺 定位 方法 标识 | ||
【主权项】：
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