[发明专利]一种单晶硅片多模式高效清洗装置在审
| 申请号： | 202010890367.0 | 申请日： | 2020-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN112259470A | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 陈春成;戚建静 | 申请（专利权）人： | 江苏晶品新能源科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;B08B3/02;B08B1/02;B08B3/12;B08B3/14;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人： | 艾秀丽 |
| 地址： | 225600 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及单晶硅片技术领域，且公开了一种单晶硅片多模式高效清洗装置，包括工作架，所述工作架的底部固定安装有底板，所述底板的顶部固定安装有净水箱，所述工作架的顶部固定安装有支撑架，所述工作架的顶部固定安装有位于支撑架内部的清洗箱，所述净水箱的左侧固定安装有净水泵，所述净水泵的顶部固定安装有位于清洗箱前侧的导水管。该单晶硅片多模式高效清洗装置，净化泵上设置的吸水管，净化泵启动后将净水从吸水管导至导水管的内部，方便于循环使用，该单晶硅片多模式高效清洗装置，通过利用蛇形过滤通道和三级滤网，对污水实现曲折型高效过滤，方便于达到快速净化的作用，使净化后的水可以循环使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单晶硅 模式 高效 清洗 装置 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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