[发明专利]一种单晶硅片多模式高效清洗装置

权利要求书

1.一种单晶硅片多模式高效清洗装置，包括工作架(1)，其特征在于：所述工作架(1)的底部固定安装有底板(2)，所述底板(2)的顶部固定安装有净水箱(3)，所述工作架(1)的顶部固定安装有支撑架(4)，所述工作架(1)的顶部固定安装有位于支撑架(4)内部的清洗箱(5)，所述净水箱(3)的左侧固定安装有净水泵(6)，所述净水泵(6)的顶部固定安装有位于清洗箱(5)前侧的导水管(7)，所述导水管(7)后表面的左右两侧均固定连接有延伸至清洗箱(5)内部的喷水管(8)，所述喷水管(8)的前后两侧均固定安装有喷射头(9)，所述喷水管(8)的前后两侧均固定安装有位于两个喷射头(9)之间的喷淋头(10)，所述支撑架(4)的内部右侧固定安装有固定架(11)，所述固定架(11)的左侧固定安装有数量为两个的主电机(12)，所述主电机(12)的输出轴处固定连接有延伸至清洗箱(5)内部并与其转动连接的清洗辊(13)，所述清洗箱(5)前侧固定安装有贯穿清洗箱(5)并延伸至清洗箱(5)后侧的防脱架(14)，所述防脱架(14)的外部固定安装有驱动输送装置(15)，所述清洗箱(5)的内顶壁前后两侧均固定安装有连接臂(16)，所述连接臂(16)的底部固定安装有防水超声波发生器(17)，所述连接臂(16)的底部固定安装有位于防水超声波发生器(17)前后两侧的擦拭板(18)，所述净水箱(3)的顶部固定安装有贯穿工作架(1)的顶部的过滤箱(19)，所述过滤箱(19)的内部活动安装有与清洗箱(5)内部相通的过滤盒(20)，所述过滤盒(20)的内部开设有蛇形过滤通道(21)。

2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片多模式高效清洗装置，其特征在于：所述工作架(1)的底部前后左右四侧均设置有与底板(2)连接的工作立柱，所述净水箱(3)的右侧设置有与其内部相通的注水管。

3.根据权利要求1所述的一种单晶硅片多模式高效清洗装置，其特征在于：所述支撑架(4)包括有与工作架(1)连接且数量为两个的支撑立柱和位于两个支撑立柱顶部的支撑顶板，所述支撑架(4)的前侧设置有控制箱，所述净水泵(6)的右侧设置有延伸至净水箱(3)内部的吸水管。

4.根据权利要求1所述的一种单晶硅片多模式高效清洗装置，其特征在于：所述固定架(11)上设置有位于主电机(12)外部的电机架，所述清洗箱(5)的内部设置有与清洗辊(13)转动连接的轴承座。

5.根据权利要求1所述的一种单晶硅片多模式高效清洗装置，其特征在于：所述清洗辊(13)的外部设置有清洗软毛，所述喷淋头(10)与清洗辊(13)在同一垂直线，所述清洗箱(5)的前后两侧均设置有与防脱架(14)连接的托板。

6.根据权利要求5所述的一种单晶硅片多模式高效清洗装置，其特征在于：所述驱动输送装置(15)包括有位于两个托板顶部的驱动电机和位于两个驱动电机输出轴外部并位于防脱板(14)外部的输送带，所述防脱架(14)的顶部和底部均设置有位于输送带左右两侧的限位导轮。

7.根据权利要求1所述的一种单晶硅片多模式高效清洗装置，其特征在于：所述连接臂(16)的底部设置有与两个擦拭板(18)连接的主连接板，且防水超声波发生器(17)的顶部固定安装有与两个擦拭板(18)连接的副连接板，所述擦拭板(18)的底部设置有擦拭布。

8.根据权利要求1所述的一种单晶硅片多模式高效清洗装置，其特征在于：所述过滤盒(20)的左右两侧均设置有与过滤箱(19)滑动连接的滑条，且过滤盒(20)的前侧设置有与过滤箱(19)前侧密封的密封盖板，且密封盖板的前侧设置有抽拉柄。

9.根据权利要求1所述的一种单晶硅片多模式高效清洗装置，其特征在于：所述过滤盒(20)的内部设置有数量为三个且位于蛇形过滤通道(21)内部的过滤网，且三个过滤网从上至下分别位于粗滤网、细滤网和精滤网。