[发明专利]一种单晶硅片多模式高效清洗装置在审

专利信息
申请号: 202010890367.0 申请日: 2020-08-29
公开(公告)号: CN112259470A 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 陈春成;戚建静 申请(专利权)人: 江苏晶品新能源科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;B08B3/02;B08B1/02;B08B3/12;B08B3/14;B08B13/00
代理公司: 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 代理人: 艾秀丽
地址: 225600 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 单晶硅 模式 高效 清洗 装置
【说明书】:

发明涉及单晶硅片技术领域,且公开了一种单晶硅片多模式高效清洗装置,包括工作架,所述工作架的底部固定安装有底板,所述底板的顶部固定安装有净水箱,所述工作架的顶部固定安装有支撑架,所述工作架的顶部固定安装有位于支撑架内部的清洗箱,所述净水箱的左侧固定安装有净水泵,所述净水泵的顶部固定安装有位于清洗箱前侧的导水管。该单晶硅片多模式高效清洗装置,净化泵上设置的吸水管,净化泵启动后将净水从吸水管导至导水管的内部,方便于循环使用,该单晶硅片多模式高效清洗装置,通过利用蛇形过滤通道和三级滤网,对污水实现曲折型高效过滤,方便于达到快速净化的作用,使净化后的水可以循环使用。

技术领域

本发明涉及单晶硅片技术领域,具体为一种单晶硅片多模式高效清洗装置。

背景技术

单晶硅片:硅的单晶体,是一种具有基本完整的点阵结构的晶体,不同的方向具有不同的性质,是一种良好的半导材料。

现有的单晶硅片应用已经十分广泛了,可用于制造半导体器件,针对现有的单晶硅片,在对其加工中需要进行清洗,但是现有的清洗装置较为简单,不能高效的对单晶硅片快速清洗,且现有的清洗装置后的污水不能循环利用,进而造成水资源的浪费,难以满足社会的需求,故而提出了一种单晶硅片多模式高效清洗装置来解决上述中的问题。

发明内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足,本发明提供了一种单晶硅片多模式高效清洗装置,具备高效清洗和方便水循环的优点,解决了现有的清洗装置较为简单,不能高效的对单晶硅片快速清洗,且现有的清洗装置后的污水不能循环利用,进而造成水资源的浪费的问题。

(二)技术方案

为实现上述高效清洗和方便水循环目的,本发明提供如下技术方案:一种单晶硅片多模式高效清洗装置,包括工作架,所述工作架的底部固定安装有底板,所述底板的顶部固定安装有净水箱,所述工作架的顶部固定安装有支撑架,所述工作架的顶部固定安装有位于支撑架内部的清洗箱,所述净水箱的左侧固定安装有净水泵,所述净水泵的顶部固定安装有位于清洗箱前侧的导水管,所述导水管后表面的左右两侧均固定连接有延伸至清洗箱内部的喷水管,所述喷水管的前后两侧均固定安装有喷射头,所述喷水管的前后两侧均固定安装有位于两个喷射头之间的喷淋头,所述支撑架的内部右侧固定安装有固定架,所述固定架的左侧固定安装有数量为两个的主电机,所述主电机的输出轴处固定连接有延伸至清洗箱内部并与其转动连接的清洗辊,所述清洗箱前侧固定安装有贯穿清洗箱并延伸至清洗箱后侧的防脱架,所述防脱架的外部固定安装有驱动输送装置,所述清洗箱的内顶壁前后两侧均固定安装有连接臂,所述连接臂的底部固定安装有防水超声波发生器,所述连接臂的底部固定安装有位于防水超声波发生器前后两侧的擦拭板,所述净水箱的顶部固定安装有贯穿工作架的顶部的过滤箱,所述过滤箱的内部活动安装有与清洗箱内部相通的过滤盒,所述过滤盒的内部开设有蛇形过滤通道。

优选的,所述工作架的底部前后左右四侧均设置有与底板连接的工作立柱,所述净水箱的右侧设置有与其内部相通的注水管。

优选的,所述支撑架包括有与工作架连接且数量为两个的支撑立柱和位于两个支撑立柱顶部的支撑顶板,所述支撑架的前侧设置有控制箱,所述净水泵的右侧设置有延伸至净水箱内部的吸水管。

优选的,所述固定架上设置有位于主电机外部的电机架,所述清洗箱的内部设置有与清洗辊转动连接的轴承座。

优选的,所述清洗辊的外部设置有清洗软毛,所述喷淋头与清洗辊在同一垂直线,所述清洗箱的前后两侧均设置有与防脱架连接的托板。

优选的,所述驱动输送装置包括有位于两个托板顶部的驱动电机和位于两个驱动电机输出轴外部并位于防脱板外部的输送带,所述防脱架的顶部和底部均设置有位于输送带左右两侧的限位导轮。

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