[发明专利]一种光掩模组件及光刻系统在审
申请号: | 202010863609.7 | 申请日: | 2020-08-25 |
公开(公告)号: | CN111913346A | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
发明(设计)人: | 林锦鸿;蔡奇澄;贺遵火;孙亚东 | 申请(专利权)人: | 泉芯集成电路制造(济南)有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 柳虹 |
地址: | 250101 山东省济南市*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本申请实施例提供了一种光掩模组件及光刻系统,光掩模组件包括透明容器以及透明容器内部设置的光掩模,透明容器用于在光掩模的曝光过程中为光掩模隔绝空气,透明容器中填充有超洁净水或超洁净空气,这样光掩模上无需形成覆膜,节省了在光掩模上形成覆膜所需要的工艺和成本,同时透明容器可以在曝光过程中为光掩模隔绝空气,以及空气中的粉尘,同时透明容器中的超洁净液体或超洁净气体可以对光掩模表面起到净化作用以及组织表面物质聚集的作用,因此可以降低光掩模表面的杂质堆积,减少光掩模的曝光缺陷。 | ||
搜索关键词: | 一种 模组 光刻 系统 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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