[发明专利]一种光掩模组件及光刻系统在审

专利信息
申请号: 202010863609.7 申请日: 2020-08-25
公开(公告)号: CN111913346A 公开(公告)日: 2020-11-10
发明(设计)人: 林锦鸿;蔡奇澄;贺遵火;孙亚东 申请(专利权)人: 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
主分类号: G03F1/66 分类号: G03F1/66
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 柳虹
地址: 250101 山东省济南市*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 本申请实施例提供了一种光掩模组件及光刻系统,光掩模组件包括透明容器以及透明容器内部设置的光掩模,透明容器用于在光掩模的曝光过程中为光掩模隔绝空气,透明容器中填充有超洁净水或超洁净空气,这样光掩模上无需形成覆膜,节省了在光掩模上形成覆膜所需要的工艺和成本,同时透明容器可以在曝光过程中为光掩模隔绝空气,以及空气中的粉尘,同时透明容器中的超洁净液体或超洁净气体可以对光掩模表面起到净化作用以及组织表面物质聚集的作用,因此可以降低光掩模表面的杂质堆积,减少光掩模的曝光缺陷。
搜索关键词: 一种 模组 光刻 系统
【主权项】:
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