[发明专利]一种光掩模组件及光刻系统在审
| 申请号： | 202010863609.7 | 申请日： | 2020-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN111913346A | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 林锦鸿;蔡奇澄;贺遵火;孙亚东 | 申请（专利权）人： | 泉芯集成电路制造（济南）有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/66 | 分类号： | G03F1/66 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 柳虹 |
| 地址： | 250101 山东省济南市*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 模组 光刻 系统 | ||
1.一种光掩模组件，其特征在于，包括：
透明容器，以及所述透明容器内部设置的光掩模；所述透明容器用于在所述光掩模的曝光过程中为所述光掩模隔绝空气，所述透明容器中填充有超洁净液体或超洁净气体。
2.根据权利要求1所述的组件，其特征在于，所述超洁净液体为超洁净水，所述超洁净气体为惰性气体或氮气。
3.根据权利要求2所述的组件，其特征在于，所述透明容器具有第一开口和第二开口，分别用于通入和排出所述超洁净液体或所述超洁净气体。
4.根据权利要求3所述的组件，其特征在于，所述超洁净液体或所述超洁净气体在所述光掩模的曝光过程中通过所述第一开口和所述第二开口流通。
5.根据权利要求3所述的组件，其特征在于，所述第一开口和所述第二开口设置于相对的两个表面上。
6.根据权利要求1-5任意一项所述的组件，其特征在于，所述透明容器至少具有平行的两个平面，所述光掩模设置在所述透明容器中时与所述平行的平面平行。
7.根据权利要求6所述的组件，其特征在于，所述透明容器为棱柱结构。
8.根据权利要求6所述的组件，其特征在于，所述光掩模设置在所述透明容器中时，所述光掩模的图形层与所述平行的两个平面的距离大于或等于3mm。
9.一种光刻系统，其特征在于，包括：曝光光源和权利要求1-8任意一项所述的光掩模组件。
10.根据权利要求9所述的光刻系统，其特征在于，所述曝光光源为紫外光源、深紫外光源或极紫外光源。
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