[发明专利]一种光掩模组件及光刻系统

说明书

本申请实施例提供了一种光掩模组件及光刻系统，光掩模组件包括透明容器以及透明容器内部设置的光掩模，透明容器用于在光掩模的曝光过程中为光掩模隔绝空气，透明容器中填充有超洁净水或超洁净空气，这样光掩模上无需形成覆膜，节省了在光掩模上形成覆膜所需要的工艺和成本，同时透明容器可以在曝光过程中为光掩模隔绝空气，以及空气中的粉尘，同时透明容器中的超洁净液体或超洁净气体可以对光掩模表面起到净化作用以及组织表面物质聚集的作用，因此可以降低光掩模表面的杂质堆积，减少光掩模的曝光缺陷。

技术领域

本申请涉及光刻领域，特别涉及一种光掩模组件及光刻系统。

背景技术

光掩模(photomask)是一种精密的透光板，其上包含电路布局，在光刻过程中，可以将光掩模中的图案转移到印刷电路中。若光掩模上粘附有尘埃或污染颗粒，容易导致尘埃或污染颗粒的图形也同时转移到印刷电路，而使印刷电路产生额外的部件，而构成光掩模的曝光缺陷。为了避免这种曝光缺陷，目前会在光掩模上形成一层覆膜(pellicle)，从而避免环境或制程中的微小粉尘(particle)直接沉降在光掩模表面上，然而，目前在光掩模上形成覆膜对环境和工艺要求较高，且形成覆膜的光掩模在一些场景下依然存在曝光缺陷问题。

发明内容

有鉴于此，本申请的目的在于提供一种光掩模组件及光刻系统，减少光掩模的曝光缺陷。

为实现上述目的，本申请有如下技术方案：

本申请实施例提供了一种光掩模组件，包括：

透明容器，以及所述透明容器内部设置的光掩模；所述透明容器用于在所述光掩模的曝光过程中为所述光掩模隔绝空气，所述透明容器中填充有超洁净液体或超洁净气体。

可选的，所述超洁净液体为超洁净水，所述超洁净气体为惰性气体或氮气。

可选的，所述透明容器具有第一开口和第二开口，分别用于通入和排出所述超洁净液体或所述超洁净气体。

可选的，所述超洁净液体或所述超洁净气体在所述光掩模的曝光过程中通过所述第一开口和所述第二开口流通。

可选的，所述第一开口和所述第二开口设置于相对的两个表面上。

可选的，所述透明容器至少具有平行的两个平面，所述光掩模设置在所述透明容器中时与所述平行的平面平行。

可选的，所述透明容器为棱柱结构。

可选的，所述光掩模设置在所述透明容器中时，所述平行的两个平面与所述光掩模的图形层之间的距离大于或等于3mm。

本申请实施例还提供了一种光刻系统，包括：曝光光源和所述的光掩模组件。

可选的，所述曝光光源为紫外光源、深紫外光源或极紫外光源。

本申请实施例提供了一种光掩模组件及光刻系统，包括透明容器以及透明容器内部设置的光掩模，透明容器用于在光掩模的曝光过程中为光掩模隔绝空气，透明容器中填充有超洁净水或超洁净空气，这样光掩模上无需形成覆膜，节省了在光掩模上形成覆膜所需要的工艺和成本，同时透明容器可以在曝光过程中为光掩模隔绝空气，以及空气中的粉尘，同时透明容器中的超洁净液体或超洁净气体可以对光掩模表面起到净化作用以及组织表面物质聚集的作用，因此可以降低光掩模表面的杂质堆积，减少光掩模的曝光缺陷。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为现有技术中的一种光掩模组件的结构示意图；