[发明专利]一种微弧氧化膜层的封孔方法有效

专利信息
申请号: 202010850336.2 申请日: 2020-08-21
公开(公告)号: CN112064091B 公开(公告)日: 2021-10-26
发明(设计)人: 刘志聃;黎花;单志;胡晓岳;戴护民 申请(专利权)人: 广东机电职业技术学院
主分类号: C25D11/30 分类号: C25D11/30;A61L27/04;A61L27/34;A61L27/56;A61L27/58;A61L27/50
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 齐键
地址: 510000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种微弧氧化膜层的封孔方法,包括以下步骤:1)对带微弧氧化膜层的镁/镁合金进行清洗、干燥;2)配制聚己内酯溶液;3)带微弧氧化膜层的镁/镁合金在聚己内酯溶液中的浸渍;4)对浸渍过的带微弧氧化膜层的镁/镁合金进行真空干燥;5)重复步骤3)和4)的操作多次;6)将步骤5)处理过的带微弧氧化膜层的镁/镁合金放入密闭容器,升温至密闭容器内温度超过聚己内酯熔点,并加压保持,再降至室温并减压。本发明采用浸渍‑提拉‑固化法对微弧氧化膜层进行封孔,可以使材料宏观表面平整、封孔牢固,再通过加热、加压、冷却和减压操作封闭微孔,在微弧氧化膜层的基础上大幅提高了镁/镁合金的耐蚀性能。
搜索关键词: 一种 氧化 方法
【主权项】:
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