[发明专利]曝光装置在审
| 申请号： | 202010843007.5 | 申请日： | 2020-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN111929993A | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 李世波 | 申请（专利权）人： | 深圳市爱普拓思科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/133 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 罗平 |
| 地址： | 518051 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种曝光装置，包括：液晶显示掩膜，所述液晶显示掩膜包括第一基体、第二基体及液晶层，所述液晶层中分布有多个液晶；控制器，用于控制所述液晶显示掩膜显示预设的图案，并控制所述液晶显示掩膜的表面除了被所述预设的图案覆盖的区域外的区域为不透光区域；光源发出的第一出射光照射并穿过所述液晶显示掩膜的表面，被预设的图案覆盖的区域时射出第二出射光，照射被曝光物，使得被曝光物被所述第二出射光照射的表面曝光显示出预设的形状图案，控制器通过控制所述液晶层中不同区域的液晶的驱动电压值，以控制各不同区域的液晶的转动方向及/或扭曲程度，控制第二出射光的强度值。本申请成像简单、成本低且成像的准确度高。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
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