[发明专利]曝光装置

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，包括：

液晶显示掩膜，所述液晶显示掩膜包括第一基体、与所述第一基体相对设置的第二基体及设置于所述第一基体与所述第二基体之间的液晶层，所述液晶层中分布有多个液晶；

控制器，与所述液晶显示掩膜连接，用于控制所述液晶显示掩膜显示预设的图案，并控制所述液晶显示掩膜的表面除了被所述预设的图案覆盖的区域外的区域为不透光区域；

光源，设置于所述液晶显示掩膜的一侧，所述光源发出的第一出射光照射并穿过所述液晶显示掩膜的表面被所述预设的图案覆盖的区域，射出第二出射光，所述第二出射光照射被曝光物，以使得被曝光物被所述第二出射光照射的表面曝光显示出预设的形状图案；

其中，所述控制器通过控制所述液晶层中不同区域的液晶的驱动电压值，以控制各不同区域的液晶的转动方向及/或扭曲程度，使得所述液晶显示掩膜显示预设的图案，并控制所述第二出射光的强度值。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于：

所述第一基体为玻璃基板；及/或

所述第二基体为玻璃基板。

3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述液晶呈阵列排布。

4.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述液晶显示掩膜为透明状。

5.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述预设的图案包括圆形、椭圆形、环形、矩形、多边形或不规则形状中的至少一种。

6.如权利要求1-5任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述第一出射光包括紫外光、LED光及激光中的至少一种。

7.如权利要求1-5任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述第一出射光为平行光，且沿垂直于所述液晶显示掩膜的显示图案的表面的方向，照射所述液晶显示掩膜。

8.如权利要求1-5任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述第二出射光为平行光，且沿垂直于所述液晶显示掩膜正下方的被曝光物的上表面的方向照射所述被曝光物。

9.如权利要求1-5任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述不透光区域的光线透过率小于或等于5％。

10.如权利要求1-5任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述控制器包括台式机、一体机、平板电脑、手机、微控制单元、工控机、智能手表或智能可穿戴设备中的至少一种。