[发明专利]单硅片清洗机腔室内压的自动控制系统及自动控制方法在审
| 申请号： | 202010837534.5 | 申请日： | 2020-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN111984040A | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 许忠晖;王东铭;陈嘉勇;杨昱霖 | 申请（专利权）人： | 泉芯集成电路制造（济南）有限公司 |
| 主分类号： | G05D16/20 | 分类号： | G05D16/20;H01L21/67;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李晓光 |
| 地址： | 250101 山东省济南市*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种单硅片清洗机腔室内压的自动控制系统及自动控制方法，通过将数值比对控制子系统、压差计、风机组和排气装置进行联动控制，实现了自动化控制腔室内压的目的。避免因内压不稳或变成负压，导致大气未经过滤进入腔室造成产品缺陷的问题发生，进而可极大程度的提高产品良率。并且，可有效掌握腔室内压稳定度以及硬体变异，可提前预防硬体变异导致内压不稳定而造成产品缺陷的问题，进而可极大程度的提高产品良率。以及，可自动控制腔体内压，极大程度的降低了人力成本以及提高产出。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 清洗 室内 自动控制系统 自动控制 方法 | ||
【主权项】：
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