[发明专利]一种单晶硅片清洗装置及工艺在审
| 申请号： | 202010755906.X | 申请日： | 2020-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN111842330A | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 杨超;王艺澄 | 申请（专利权）人： | 江苏高照新能源发展有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B3/08;B08B13/00 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 马严龙 |
| 地址： | 212215 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于单晶清洗技术领域，尤其是一种单晶硅片清洗装置及工艺，包括十个连续设置的清洗槽以及用于放置单晶硅片的过滤篮；十个清洗槽依次为第一浸泡槽、第二超声溢流槽、第三超声清洗槽、第四超声清洗槽、第五超声溢流槽、第六有机清洗槽、第七溢流清洗槽、第八溢流清洗槽、第九溢流清洗槽、第十提拉槽，第九溢流清洗槽内清洗液溢出至第八溢流清洗槽，第八溢流清洗槽内清洗液溢出至第七溢流清洗槽；过滤篮从第一浸泡槽、第二超声溢流槽、第三超声清洗槽、第四超声清洗槽、第五超声溢流槽、第六有机清洗槽、第七溢流清洗槽、第八溢流清洗槽、第九溢流清洗槽、第十提拉槽依次放入和取出。本发明在实际生产过程中，专项减少单晶硅粉脏污产生率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单晶硅 清洗 装置 工艺 | ||
【主权项】：
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