[发明专利]光刻胶烘烤设备及其自动清洁方法在审
| 申请号： | 202010702044.4 | 申请日： | 2020-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN112015051A | 公开（公告）日： | 2020-12-01 |
| 发明（设计）人： | 金在植;张成根;林锺吉;贺晓彬;刘强;刘金彪;丁明正 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人： | 何家鹏 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶烘烤设备及其自动清洁方法，涉及半导体制造技术领域，该光刻胶烘烤设备包括腔室、供气机构和排气机构，腔室用于放置和加热涂有光刻胶的衬底基板；供气机构包括气泵和供气管路，供气管路连通气泵与腔室，气泵用于向腔室供给气体；排气机构包括与腔室连通的排气管路和安装在排气管路上的喷射真空泵，喷射真空泵用于将气体和污染物颗粒抽取并排出；本发明公开的光刻胶烘烤设备通过供气机构实现了对腔室内污染物颗粒的剥离清理，通过排气机构实现了对污染物颗粒的排出，提高了清洁效率，避免了污染物颗粒对腔室造成污染，避免了污染物颗粒滴落到衬底基板上后可能导致的光刻胶球形缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 烘烤 设备 及其 自动 清洁 方法 | ||
【主权项】：
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