[发明专利]光刻胶烘烤设备及其自动清洁方法在审
申请号: | 202010702044.4 | 申请日: | 2020-07-21 |
公开(公告)号: | CN112015051A | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 金在植;张成根;林锺吉;贺晓彬;刘强;刘金彪;丁明正 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16;G03F7/20 |
代理公司: | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人: | 何家鹏 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 烘烤 设备 及其 自动 清洁 方法 | ||
1.一种光刻胶烘烤设备,其特征在于,包括:
腔室,所述腔室用于放置和加热涂有光刻胶的衬底基板;
供气机构,所述供气机构包括气泵和供气管路,所述供气管路连通所述气泵与所述腔室,所述气泵用于向所述腔室供给气体;
排气机构,所述排气机构包括与所述腔室连通的排气管路和安装在所述排气管路上的喷射真空泵,所述喷射真空泵用于将所述腔室中的气体和污染物颗粒抽取并排出。
2.根据权利要求1所述的光刻胶烘烤设备,其特征在于,所述腔室的底部设置有多个进气口,所述供气管路分别与多个所述进气口连接。
3.根据权利要求2所述的光刻胶烘烤设备,其特征在于,多个所述进气口在所述腔室的底部均匀排布。
4.根据权利要求1所述的光刻胶烘烤设备,其特征在于,所述气泵设置为气体增压泵。
5.根据权利要求4所述的光刻胶烘烤设备,其特征在于,所述气体增压泵产生的气体的压力范围为0.3Mpa-0.6Mpa。
6.根据权利要求5所述的光刻胶烘烤设备,其特征在于,所述气体为氮气。
7.根据权利要求1-6任一项所述的光刻胶烘烤设备,其特征在于,所述腔室的顶部设置有至少一个排气口,所述排气口与所述排气管路的一端连接。
8.根据权利要求7所述的光刻胶烘烤设备,其特征在于,所述排气机构还包括三通阀,所述三通阀设置在所述排气管路上,所述三通阀的进气端和第一出气端分别与所述排气管路连通,所述三通阀的第二出气端与所述喷射真空泵连通。
9.根据权利要求8所述的光刻胶烘烤设备,其特征在于,所述喷射真空泵产生的压力范围为1kpa-100kpa。
10.一种光刻胶烘烤设备的自动清洁方法,其特征在于,所述光刻胶烘烤设备的自动清洁方法通过如权利要求1-9任一项所述的光刻胶烘烤设备来实施,所述光刻胶烘烤设备的自动清洁方法包括:
开启气泵和喷射真空泵,所述气泵向腔室供给气体,所述喷射真空泵抽取并排出所述腔室中的气体和污染物颗粒;
检测污染物颗粒含量;
在污染物颗粒含量低于预设值时,关闭喷射真空泵和气泵。
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