[发明专利]一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控机构在审
| 申请号： | 202010545884.4 | 申请日： | 2020-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN111681941A | 公开（公告）日： | 2020-09-18 |
| 发明（设计）人： | 吕晓东;王作义 | 申请（专利权）人： | 上海广奕电子科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/30 | 分类号： | H01J37/30;H01J37/305;F26B21/00 |
| 代理公司： | 北京卫智畅科专利代理事务所(普通合伙) 11557 | 代理人： | 陈佳 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区中国(上海)*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控机构，包括刻蚀机本体，所述刻蚀机本体的左侧设置有前后移动机构，所述刻蚀机本体的上方设置有左右移动导向机构，所述左右移动导向机构的内腔设置有左右移动机构一和左右移动机构二，所述刻蚀机本体的顶部固定连接有刻蚀基板。本发明通过前后移动机构的设置，使得监控设备能够跟随左右移动导向机构移动，从而使得监控设备与左右移动机构二之间的连接线不需要太长，从而就不易因连接线缠绕而出现事故，也能够减少对刻蚀机的损坏，延长刻蚀机的使用寿命，还能够控制左右移动机构一对刻蚀机上淤积的药水进行风力吹干，从而使得刻蚀基板的表面能够快速干燥，也方便后续的使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 icp 高密度 等离子 刻蚀 监控 机构 | ||
【主权项】：
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