[发明专利]一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控机构

权利要求书

1.一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控机构，包括刻蚀机本体(1)，其特征在于：所述刻蚀机本体(1)的左侧设置有前后移动机构(2)，所述刻蚀机本体(1)的上方设置有左右移动导向机构(3)，所述左右移动导向机构(3)的内腔设置有左右移动机构一(4)和左右移动机构二(5)，所述刻蚀机本体(1)的顶部固定连接有刻蚀基板(6)，所述左右移动机构一(4)底部的两侧分别固设有风力烘干设备二(8)和风力烘干设备一(7)，所述前后移动机构(2)的左侧固设有监控设备(9)。

2.根据权利要求1所述的一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控机构，其特征在于：所述前后移动机构(2)包括通过螺栓固定连接有在刻蚀机本体(1)左侧的固定架(21)，所述固定架(21)的后侧焊接有托板(22)，所述托板(22)的顶部焊接有电机一(23)，所述电机一(23)的输出轴固定连接有位于固定架(21)内腔的螺纹杆(24)，所述螺纹杆(24)的表面螺纹连接有滑动块(25)，所述滑动块(25)的右侧固定安装有连接件(28)，所述连接件(28)的右侧固定安装有移动柱(26)，所述监控设备(9)固定在移动柱(26)上，所述移动柱(26)的底部活动安装有滚轮(27)，所述滚轮(27)的底部与固定架(21)的内壁接触。

3.根据权利要求2所述的一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控机构，其特征在于：所述连接件(28)包括焊接在滑动块(25)上的固定块一(281)以及焊接在移动柱(26)上的固定块二(282)，所述固定块一(281)和固定块二(282)通过螺丝固定连接。

4.根据权利要求2所述的一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控机构，其特征在于：所述左右移动导向机构(3)包括固定安装在移动柱(26)顶部的导向轨(31)，所述导向轨(31)的前侧和后侧分别开设有长方孔(34)和长圆孔(32)，所述导向轨(31)内腔的顶部焊接有齿板(33)。

5.根据权利要求4所述的一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控机构，其特征在于：所述左右移动机构一(4)包括设置在导向轨(31)内腔的活动架一(41)，所述活动架一(41)的前侧固定安装有在长方孔(34)内腔滑动的滑动件(42)，所述活动架一(41)的前侧固定安装有位于滑动件(42)内腔的电机三(45)，所述电机三(45)的输出轴贯穿至活动架一(41)的内腔并固定连接有与齿板(33)啮合的齿轮一(46)，所述活动架一(41)的底部固定安装有电机二(43)，所述电机二(43)的输出轴固定连接有转盘(44)，所述风力烘干设备二(8)和风力烘干设备一(7)分别固定安装在转盘(44)底部的两侧。

6.根据权利要求4所述的一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控机构，其特征在于：所述左右移动机构二(5)包括设置在导向轨(31)内腔的活动架二(51)，所述活动架二(51)的后侧焊接有在长圆孔(32)内腔滑动的滑动销(52)，所述活动架二(51)的前侧固定安装有电机四(53)，所述电机四(53)的输出轴贯穿至活动架二(51)的内腔并固定连接有与齿板(33)啮合的齿轮二(54)，所述活动架二(51)的底部固定安装有喷洒设备(55)，所述喷洒设备(55)底部的四角均连通有喷洒头(56)。

7.根据权利要求5或6所述的一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控机构，其特征在于：所述齿轮一(46)和齿轮二(54)分别啮合在齿板(33)底部的前侧和后侧。