[发明专利]一种改善金属剥离效率的光刻版及其方法在审
申请号: | 202010534273.X | 申请日: | 2020-06-11 |
公开(公告)号: | CN113805432A | 公开(公告)日: | 2021-12-17 |
发明(设计)人: | 孙春明;苏建;夏伟;徐现刚 | 申请(专利权)人: | 山东华光光电子股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/80 | 分类号: | G03F1/80;G03F7/42;G03F7/20 |
代理公司: | 北京华际知识产权代理有限公司 11676 | 代理人: | 俞璇 |
地址: | 250101 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种改善金属剥离效率的光刻版,包括:基版、梯形台结构和铬层,基于一种改善金属剥离效率的光刻版提出了一种光刻方法,在基片表面均匀涂覆一层负性光刻胶,对涂胶后的基片进行一次烘烤,将光刻版通过压力压入涂有负性光刻胶的基片,同时进行抽真空处理,确保光刻胶与光刻版上的梯形台结构完全紧密接触,随后利用紫外曝光对基片进行曝光并形成带有与梯形台结构角度相同的倒角光刻胶结构,随后进行二次烘烤,对烘烤后的基片进行沉积和剥离,通过剥离基片上的负性光刻胶,保留所需要的金属图形,通过一次光刻对倒角光刻胶结构的角度和深度进行控制,提高金属剥离效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 改善 金属 剥离 效率 光刻 及其 方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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