[发明专利]一种维持大尺寸碳化硅晶型稳定的装置及生长方法有效

专利信息
申请号: 202010517206.7 申请日: 2020-06-09
公开(公告)号: CN113122914B 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 杨丽雯;何丽娟;靳丽婕;程章勇;韦玉平;李天运;陈颖超;李百泉;张云伟;王丽君 申请(专利权)人: 北京世纪金光半导体有限公司
主分类号: C30B23/00 分类号: C30B23/00;C30B29/36
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100176 北京市大*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种稳定大尺寸碳化硅晶型稳定的生长方法。包括(1)生长初期籽晶近生长界面通入保护气体,均匀(0001)小面及小面附近区域的料源饱和度。从而达到避免小面及小面附近台阶宽化的目的。该方法有助于减少异晶型在宽台阶上产生2D成核的可能性,从而提高晶体的稳定性。(2)生长后期在小面附近增加气流的基础上增加籽晶轴向提拉以及旋转,从而达到控制界面形状稳定和维持饱和度均一的两个目标,使得整个生长过程中晶型稳定。该发明的碳化硅单晶生长装置能应用于4‑6英寸及不同切割偏角的籽晶,甚至更大尺寸的晶体生长,大幅度稳定了小面及小面附近晶型的稳定性,得到了高质量的碳化硅单晶晶体。
搜索关键词: 一种 维持 尺寸 碳化硅 稳定 装置 生长 方法
【主权项】:
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