[发明专利]蒸镀坩埚、蒸镀设备以及蒸镀方法在审
| 申请号： | 202010440858.5 | 申请日： | 2020-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN111471967A | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | 匡友元 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/12;H01L51/56 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 刁文魁 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明适用于蒸镀工艺技术领域，提供了一种蒸镀坩埚和蒸镀设备、以及使用该蒸镀设备的蒸镀方法。其中，所述蒸镀坩埚用于基板沉积，包括坩埚本体、缓冲室和导流支管，所述缓冲室设于所述坩埚本体上方，并与其连通；所述导流支管设于所述缓冲室上方并与所述缓冲室连通。上述蒸镀坩埚能够有效提高材料的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 坩埚 设备 以及 方法 | ||
【主权项】：
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