[发明专利]蒸镀坩埚、蒸镀设备以及蒸镀方法

说明书

本发明适用于蒸镀工艺技术领域，提供了一种蒸镀坩埚和蒸镀设备、以及使用该蒸镀设备的蒸镀方法。其中，所述蒸镀坩埚用于基板沉积，包括坩埚本体、缓冲室和导流支管，所述缓冲室设于所述坩埚本体上方，并与其连通；所述导流支管设于所述缓冲室上方并与所述缓冲室连通。上述蒸镀坩埚能够有效提高材料的利用率。

技术领域

本发明涉及蒸镀工艺技术领域，特别涉及一种蒸镀坩埚、蒸镀设备以及蒸镀方法。

背景技术

OLED作为新一代的固态自发光显示技术，相较于液晶显示具有超薄、响应度高、对比度高、功耗低等优势，近几年产业化速度突飞猛进。三星、LG已经把AMOLED显示屏应用于自家的智能手机上，获得了非常好的市场。目前OLED主流的制备技术和方法是蒸镀法，即在真空腔体内加热有机小分子材料，使其升华或者熔融气化成材料蒸汽，透过金属光罩的开孔沉积在玻璃基板上。然后通过在封装手套箱体内用玻璃或金属后盖涂布胶框的封装方式完成对OLED器件的密封。

在现有的OLED point source坩埚蒸发系统中，受制于加热方式，材料利用较低，采用点或线性蒸发源，材料利用率在1％---10％之间；造成目前OLED产业材料利用率低，OLED相关产品价格高昂；对于OLED产线而言，材料利用率低。

发明内容

本发明的目的在于提供一种蒸镀坩埚、蒸镀设备及蒸镀方法，旨在解决上述材料利用率低的技术问题。

本发明是这样实现的，提供一种蒸镀坩埚，用于基板沉积，包括坩埚本体，缓冲室和导流支管；所述缓冲室设于所述坩埚本体上方，并与其连通；所述导流支管设于所述缓冲室上方并与所述缓冲室连通。

在一个实施例中，所述坩埚本体形成容纳腔，所述容纳腔顶部开口与所述缓冲室连通。

在一个实施例中，还包括设置在所述缓冲室内的分散板，将缓冲室分为第一空腔和第二空腔；所述分散板用于缓冲从所述坩埚本体受热的蒸镀材料分子避免其直接对冲基板。

在一个实施例中，所述缓冲室两侧设有惰性气体通入管道；所述惰性气体通入管道与所述缓冲室与所述第一空腔连通。

在一个实施例中，所述缓冲室设有顶面；所述导流支管为多个，均一端穿过所述顶面伸入所述缓冲室内，与缓冲室连通，所述多个导流支管均匀设置于所述顶面。

在一个实施例中，每个所述导流支管均垂直于基板设置。

在一个实施例中，每个所述导流支管长度为10厘米至30厘米之间。

一种蒸镀设备，用于基板沉积，包括：蒸镀腔室、位于蒸镀腔室内如上述任一实施例所述的蒸镀坩埚。

在一个实施例中，所述蒸镀腔室为密闭真空腔体。

本发明还提供一种使用上述的蒸镀坩埚的蒸镀方法，包括以下步骤：

将待蒸镀的蒸镀材料置于所述坩埚本体的底部并加热坩埚本体以使所述待蒸镀的蒸镀材料受热变成蒸镀材料分子蒸汽；

所述蒸镀材料分子蒸汽向上运动进入所述缓冲室；

其中蒸镀材料在所述坩埚本体底部，加热所述坩埚本体，蒸镀材料受热变成蒸汽状态，进入所述缓冲室，形成一个对外的饱和压力差；通过所述惰性气体通入管道向所述缓冲室内通入惰性气体，且所述惰性气体温度接近或略高于蒸镀材料分子蒸汽；

蒸镀材料分子与惰性气体分子发生碰撞获得动能，通过从导流支管射出，沉积在所述基板上；所述基板预先加热至一定温度。

本发明提供的蒸镀坩埚、蒸镀设备以及蒸镀方法的有益效果在于：本发明通过在坩埚本体上方设置一个缓冲室，缓冲室顶部连通导流支管，通过导流支管局限蒸镀材料分子射出角度来减少材料浪费

附图说明