[发明专利]PDMS薄膜基底、薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202010305251.6 | 申请日： | 2020-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN111571880A | 公开（公告）日： | 2020-08-25 |
| 发明（设计）人： | 吴天昊;徐弘毅;谢辰同;臧振宇 | 申请（专利权）人： | 北京电子工程总体研究所 |
| 主分类号： | B29C33/38 | 分类号： | B29C33/38;B29C41/38;B29C41/08;B29L7/00 |
| 代理公司： | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人： | 付生辉 |
| 地址： | 100854*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种PDMS薄膜基底、薄膜及其制备方法，PDMS薄膜基底的制备方法包括采用丙酮和乙醇对玻璃衬底表面进行清洗，对清洗后的玻璃衬底进行羟基化处理，将羟基化处理后的玻璃衬底进行硅烷化处理得到PDMS薄膜基底，本发明解决了PDMS制作过程中普遍的剥离困难的问题，使得制作方法简单易行，制备的PDMS薄膜成功率高，可以得到较好的高柔韧性的PDMS薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | pdms 薄膜 基底 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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