[发明专利]PDMS薄膜基底、薄膜及其制备方法在审
申请号: | 202010305251.6 | 申请日: | 2020-04-17 |
公开(公告)号: | CN111571880A | 公开(公告)日: | 2020-08-25 |
发明(设计)人: | 吴天昊;徐弘毅;谢辰同;臧振宇 | 申请(专利权)人: | 北京电子工程总体研究所 |
主分类号: | B29C33/38 | 分类号: | B29C33/38;B29C41/38;B29C41/08;B29L7/00 |
代理公司: | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人: | 付生辉 |
地址: | 100854*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | pdms 薄膜 基底 及其 制备 方法 | ||
1.一种PDMS薄膜基底的制备方法,其特征在于,
采用丙酮和乙醇对玻璃衬底表面进行清洗;
对清洗后的玻璃衬底进行羟基化处理;
将羟基化处理后的玻璃衬底进行硅烷化处理得到PDMS薄膜基底。
2.根据权利要求1所述的PDMS薄膜基底的制备方法,其特征在于,所述对清洗后的玻璃衬底进行羟基化处理具体包括:
将清洗后的玻璃衬底依次放入流硫酸和过氧化氢浸泡并分别超声清洗;
将玻璃片取出并用去离子水清洗;
对去离子水清洗后的玻璃片采用N2吹干。
3.根据权利要求1所述的PDMS薄膜基底的制备方法,其特征在于,所述将羟基化处理后的玻璃衬底进行硅烷化处理得到PDMS薄膜基底具体包括:
将羟基化处理后的玻璃衬底浸入三甲基氯硅烷溶液中;
在预设温度条件下加热预设时间后取出。
4.一种PDMS薄膜基底,其特征在于,通过如权利要求1-3任一项所述的DMS柔性传感器基底的制备方法制备得到的。
5.一种PDMS柔性传感器薄膜的制备方法,其特征在于,包括:
制备PDMS胶体;
将所述PDMS胶体通过旋涂方式在如权利要求4所述的PDMS薄膜基底上形成PDMS薄膜;
将所述PDMS薄膜从所述PDMS薄膜基底上剥离。
6.根据权利要求5所述的PDMS柔性传感器薄膜的制备方法,其特征在于,所述制备PDMS胶体具体包括:
将PDMS双组分试剂的主试剂和硬化剂按预设质量比放入塑料烧杯中混合并充分搅拌至形成表面出现预设数量条件气泡的胶体;
将胶体固定到真空腔内除气至胶体表面气泡消失至预设条件;
静置胶体至胶体表面气泡完全消失得到PDMS胶体。
7.根据权利要求5所述的PDMS柔性传感器薄膜的制备方法,其特征在于,所述将所述PDMS胶体通过旋涂方式在如权利要求4所述的PDMS薄膜基底上形成PDMS薄膜具体包括:
将如权利要求4所述的PDMS薄膜基底放在旋涂机上,打开真空泵固定所述PDMS薄膜基底;
在所述PDMS薄膜基底上滴加PDMS胶体,打开旋涂机进行旋涂直至玻璃衬底上的PDMS均匀旋涂得到PDMS薄膜;
将形成有PDMS薄膜的所述PDMS薄膜基底放入烘箱烘烤。
8.根据权利要求7所述的PDMS柔性传感器薄膜的制备方法,其特征在于,所述将所述PDMS薄膜从所述PDMS薄膜基底上剥离具体包括:
将所述PDMS薄膜基底从烘箱中取出,静置预设冷却时间;
通过剥离工具将PDMS薄膜从一端剥离一角进而将PDMS薄膜从所述PDMS薄膜基底上剥离;
将剥离下的PDMS薄膜置于玻璃模板上得到用于作为柔性压力传感器基底的PDMS薄膜。
9.一种PDMS柔性传感器薄膜,其特征在于,通过如权利要求5-8任一项所述的PDMS柔性传感器薄膜的制备方法制备得到的。
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