[发明专利]沉积用掩模及其制造方法在审
| 申请号： | 202010243216.6 | 申请日： | 2020-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN112176280A | 公开（公告）日： | 2021-01-05 |
| 发明（设计）人： | 韩政洹 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 李盛泉;刘灿强 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供沉积用掩模及其制造方法。沉积用掩模包括：阻断部，包括主阻断部件和辅助阻断部件而构成；以及多个开口部，布置在所述阻断部的内部，并包括第一开口部和第二开口部；其中，所述阻断部包括：一面；另一面，与所述一面对向；内侧面，向所述开口部暴露；一侧端部，位于所述一面和所述内侧面的交叉点，并且包括锐角的尖端形状；以及另一侧端部，位于所述另一面和所述内侧面的交叉点，所述第一开口部周围的所述阻断部的所述一侧端部包括包含所述辅助阻断部件而构成的第一端部。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 用掩模 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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